1. 光敏刻章机光敏机制作流程
光敏刻章机的制作流程主要包括以下步骤：
首先，在电脑中使用图形软件（如Photoshop、CroelDRAW等）处理获得的人像图片，确保图片质量清晰，轮廓分明，对比度好。然后，通过激光打印机将处理好的图片打印在胶片上。
接下来，将打印好的胶片覆盖上透明曝光膜，确保膜的大小完全覆盖住胶片。同时，将光敏印章垫放置在曝光盒的最底层，中间层为透明曝光膜，第三层则是打印好的胶片，胶片朝下。确保三者之间紧密接触，无间隙或褶皱。
然后，接通电源并打开电源开关，触发光敏机的曝光按钮，机器开始自动充电并曝光。
根据不同的光敏印章垫，需要调整曝光能量。通过可调节式电位器，本机可提供10级曝光能量，从低至高均可精确曝光。初次使用时，建议先用边角料测试出适合该章垫的最佳曝光电压值。例如，对于某些国产光敏垫，硫酸纸打印稿推荐使用6-8级电压，胶片打印稿则为4-6级。
曝光完成后，打开抽屉，取下曝光完的光敏垫，移除胶片。接着，将曝光好的印垫放入相应的章壳内，使用AB胶固定印垫和章壳。
最后，根据印章的规格注入适量的印油，确保印油均匀分布。这样，光敏印章即制作完成，可以交付客户使用。
光敏印章机的基本原理是利用特殊材料的感光性，在印章表面不需要印迹的地方形成一层不能渗透的膜，达到印章的效果。相比传统刻章方式，光敏印章的制作速度快，且具有机器便宜、易于维护、印迹清晰、文字精密度高、使用方便等特点。无需每次盖印时沾印泥，章体大方美观且耐用，为用户提供了更为便捷的印章制作体验。